Lente fotocromática SETO 1.67 SHMC

1) Que é o revestimento por rotación?

O revestimento por centrifugación é un procedemento que se usa para depositar películas finas uniformes sobre substratos planos.Normalmente aplícase unha pequena cantidade de material de revestimento no centro do substrato, que está xirando a baixa velocidade ou non xira en absoluto.A continuación, xira o substrato a unha velocidade de ata 10.000 rpm para espallar o material de revestimento mediante a forza centrífuga.Unha máquina que se usa para o revestimento por centrifugado chámase revestimento por centrifugado ou simplemente xiradora.
Continúa a rotación mentres o fluído se desprende dos bordos do substrato, ata conseguir o espesor desexado da película.O disolvente aplicado adoita ser volátil e ao mesmo tempo se evapora.Canto maior sexa a velocidade angular de xirar, máis delgada será a película.O espesor da película tamén depende da viscosidade e concentración da solución e do disolvente.Emslie et al. realizou unha análise teórica pioneira do revestimento por espín, e foi ampliada por moitos autores posteriores (incluíndo Wilson et al., que estudaron a taxa de propagación no revestimento por spin; e Danglad-Flores et al., que atoparon un descrición universal para predecir o espesor da película depositada).
O revestimento por centrifugación utilízase amplamente na microfabricación de capas de óxido funcionais sobre substratos de vidro ou cristal único usando precursores sol-xel, onde se pode usar para crear películas finas uniformes con espesores a nanoescala.[6]Utilízase intensamente en fotolitografía, para depositar capas de fotorresistente duns 1 micrómetro de espesor.A fotoresistencia adoita xirar a 20 a 80 revolucións por segundo durante 30 a 60 segundos.Tamén é moi utilizado para a fabricación de estruturas fotónicas planas feitas de polímeros.
Unha vantaxe do revestimento por centrifugado de películas finas é a uniformidade do grosor da película.Debido á autonivelación, os espesores non varían máis do 1%.Non obstante, o revestimento por centrifugación de películas máis grosas de polímeros e fotorresistencias pode dar lugar a perlas de bordo relativamente grandes cuxa planarización ten límites físicos.